半導體制造的工藝過程錯綜復雜，所需精度和控制水平極高·與設定參數的任何細小偏離，都可能導致產品缺陷或不合格·以晶圓各層的沉積、蝕刻以及清洗等工藝為例，通過合適的壓力和流量輸送所需氣體，對于確保高效工藝和優良效果至關重要。

減壓閥成為破局的關鍵部件之一。減壓閥以恒定壓力，將氣體穩定地輸送至工藝設備。壓力越穩定，質量流量控制器的性能就越強，向工藝腔體輸送的氣體量也就越準確·此外，還有助于降低污染風險，營造受控的清潔環境。

減壓閥種類繁多，而半導體制造相關工藝通常選用不銹鋼減壓閥。派克漢尼汾旗下的FR系列減壓閥憑借五大優勢，成為眾多半導體工廠的理想之選，該系列減壓閥尤其適用于需超高純(UHP)部件的工藝過程。

五大優勢 賦能半導體氣體輸送

通用的閥體設計

該設計讓減壓閥可輕松集成到各種系統，廣泛的流速和壓力范圍使得靈活性更大，應用范圍廣
循環壽命長

采用Hastelloy C-22合金膜，耐腐蝕性強，整體循環壽命提升。Hastelloy材料高度耐用且耐腐，無懼惡劣環境和高壓循環。
安全可靠

采用金屬對金屬密封膜片，防泄漏性能優秀，為安全可靠的運行保駕護航。發貨前通過氨氣泄漏測試，安全可靠、性能出眾。

優異的適應性
多種接頭尺寸和類型可選，能適配不同類型的管道而無需額外接頭或連接件。同時，還能提供NPT螺紋標準產品。

精確控制 無懼挑戰

有了五大優勢加持，FR系列減壓閥可為半導體制造過程中的氣體傳輸，尤其是超高壓半導體氣體輸送提供精確的壓力控制，是眾多應用的理想之選

1.使用點應用

使用點應用是半導體制造中減壓閥的常見用途。在使用點應用中，減壓伐直接安裝在工藝腔體的氣體管道上。

FR系列減壓閥采用通用閥體設計，易于安裝和維護，通過精確穩定的壓力控制，有助于實現精確的半導體加工是使用點應用的理想之選。尤其是FR1000和FR1400減壓閥，能提供較高流量，快速向工藝室輸送大量氣體，非常適合等離子體蝕刻或化學氣相沉積等要求高氣體流速的工藝。

2 設備二次配(預制管路)

在一些半導體制造工藝中，氣體輸送系統會與預制管理進行配管相連，預制管路方便用戶輕松連接并斷開氣體管道。
FR減壓閥外形小巧，可以直接安裝在預制管路上，為使用點提供精確穩定的壓力控制。減壓閥采用的模塊化設計，易于維護和維修，對于需頻繁更換設備或空間有限的工藝來說，是理想之選。

3.VMBS.VMPS.GIBS
半導體制造所用的閥門分配箱、閥門分配面板和氣體隔離箱可用于控制流向工藝腔體的氣體。這些裝置還可以隔離氣體管道，以方便維護或維修。FR減壓閥結構緊湊、重量輕，可輕松安裝在閥門分配箱、閥門分配面板和氣體隔離箱上，為它們提供精確穩定的壓力控制。這些減壓閥還可以處理各種氣體，用途廠泛，適用于多種半導體工藝。

4.氣瓶柜&大宗特種氣體系統

氣瓶柜用于存儲特種氣體并將其輸送到工藝室，而大宗特種氣體系統則用于存儲并輸送到工藝腔體的特種氣體FR減壓閥外形小巧，可直接安裝在氣瓶柜或大宗特種氣體系統上，為它們提供精確穩定的壓力控制，非常適合那些需要穩定特種氣體流量或大量特種氣體的工藝·同時，它們適用于腐蝕性氣體及有毒氣體等不同氣體，可用于多種半導體工藝。FR系列減壓閥可提供較高的流量，快速向工藝室輸送大量氣體。